ASML与比利时微电子研究中心签谅解备忘录 支持高NA半导体...

王烜

　　6月28日，荷兰光刻机巨头ASML官网宣布，与比利时微电子研究中心（Imec）签署谅解备忘录，将在下一阶段加强合作，在IMEC开发一个最先进的高数值孔径（High-NA）极紫外光刻试验线。谅解备忘录包括在比利时鲁汶的Imec中试线安装和服务ASML的全套先进光刻和计量设备。